Reticulante de fenilglicolurilo CAS 721969-01-3 – Proveedor de pureza ultra alta para litografía ArF/KrF

Especificación de Imidazo[4,5-d]imidazol-2,5(1H,3H)-diona, tetrahidro-1,3,4,6-tetraquis(metoximetil)-3a-metil-6a-fenil-

Especificación 1: Pureza ≥99,5 %, impurezas metálicas totales ≤500 ppb

Especificación 2: Pureza ≥99,9 %, impureza metálica individual ≤10 ppb

Name	Imidazo[4,5-d]imidazol-2,5(1H,3H)-diona, tetrahidro-1,3,4,6-tetraquis(metoximetil)-3a-metil-6a-fenil-
Número CAS	721969-01-3
Fórmula molecular	C₁₉H₂₈N₄O₆
Fórmula estructural
Aplicaciones	Se aplica en materiales semiconductores, fotorresistencias y en los campos de fotorresistencias de ArF y KrF.
Pureza	Grado 1: ≥99%
Grado 2: ≥99%, impurezas metálicas totales ≤50 ppb
Especificación de envasado	kg/bolsa, 25 kg/bidón

Aplicaciones deImidazo[4,5-d]imidazol-2,5(1H,3H)-diona, tetrahidro-1,3,4,6-tetraquis(metoximetil)-3a-metil-6a-fenil-

En semiconductores y fotorresistencias, se utiliza específicamente como reticulante de ultra alta pureza en formulaciones de fotorresistencias de ArF y KrF para la fabricación de chips de nodos avanzados.

FAQ

P1: ¿Qué grados ultrapuros se ofrecen para fotorresistencias de ArF/KrF?

R: Dos especificaciones: ≥99,5 % (impurezas totales ≤500 ppb) y ≥99,9 % (metal individual ≤10 ppb).

P2: ¿Qué instrumentos analíticos se utilizan para el análisis de metales traza?

R: Se emplea ICP-MS de alta sensibilidad para el análisis de metales traza de todos los elementos.

P3: ¿Cómo solicitar muestras bajo un acuerdo de confidencialidad (NDA)?

R: Una vez firmado un NDA, las muestras ultrapuras de fotorresistencias se envían en un plazo de 5 días hábiles.